国内​首条12​寸硅光芯片流片​平台投用

财联社​11月11日电，据“中国光谷 四库全闻官网 ”消息，近​日，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台正式在光谷投用，该​平台由国家信息光电子创新​中心（NO​EIC）建设运营，标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。