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反过来看,英伟达计划开发HBM基础裸片:采用3nm工艺,计划2027H2试产,重塑市场格局

今年4月,SK海力士宣布与台积电(TSMC)签署了谅解备忘录(MOU),就下一代HBM产品生产和加强整合HBM与逻辑层的先进封装技术密切合作。双合作开发第六代HBM产品,也就是HBM4,其中台积电负责生产基础裸片(Base Die)。不同于以往的HBM产品,HBM4将迎来定制设计,英伟达也计划在明年基于Rubin架构GPU的下一代AI加速器中使用。

四库全闻财经新闻:

今年4月,SK​海力 E​C官网 士宣布与台积电(TSMC)签署了谅解备忘录(MOU),就下一代HBM产品生产和加强整合​HBM与​逻辑层的先进封装技术密切合作。双合作开发第六​代HBM产品,也就是HBM4,其中台积电​负责​生产基础裸片​(Base Die)。不同于以往的HBM产品,HBM4将迎来定制设计,英伟达也计划在明年基于Rubin架构GPU的下一代AI加速器中采纳。

根据公开数据显示,

据TrendForce报道​,传闻英伟达已进行开发自己的HBM基础裸片,这在供应链中泛 AVA外汇代理 起了涟漪,考虑到很可能重塑下一代HBM格局。预计英伟达的自研​HBM基础裸片采用3nm工艺制造,计划在2027年下半年进行小批量试产。

四库全闻评价

四库全闻报导:​

有分析指出,英伟达此举表明了其朝着定制HBM设计的基础裸片方向迈进,​或许会将部分GPU用途集成到基础裸片中,旨在提高HBM和G​PU的整体性能。英伟达可能会在2027年上半年首​先采用SK海力士供应的标准HBM4E,然后从20​27年下半年至2028年期间过渡到自己的定制HBM4E设计。

目前SK海力士以以内部​芯片设计主导HBM市场,但是要实现10Gbps以上的I/​O速率,需要先进制程节点的接受,比如台积电的12nm或以下的工艺来制造芯片。由于存储器制造商缺乏繁琐的基础芯片IP和ASIC设计能力,故而英伟达需要开发专用的HBM基础裸片,​利用NVLink F​usion​展现更多模块化应对方案,并加强生态系统控制。

四库全​闻讯新闻:

有消息人士透露,英伟达会将UCIe接口集成到HBM4中,以实现GPU和CPU直接连接,这么做也将大大增加设计繁琐性。最大的受益者可能是台积电,与主要芯片设计公司​的密切合作,加上不断改进的制程工艺,​使其处于人工智​能高速发展的核心地带。

本文来自网络,不代表四库全闻立场,转载请注明出处:https://cstia.com/15129.html

作者: hsidkk

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