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消息称英伟达拟自研 HBM 内存 B​as​e Die:3nm 工艺,2027H2 试产

IT之家 8 月 19 日消息,台媒《工商时报》本月 16 日报道称,英伟达已启动自家 HBM 内存 Base Die(IT之家注:基础裸片)设计计划。英伟达未来的 HBM 内存供应链将采用内存原厂 DRAM Die + 英伟达 Base Die 的组合模式,有望改写下一代 HBM 市场竞争版图。

IT之家 8 月 19 日消息,台媒《工商时报》本月 16 ​日报​道称,英伟达已启动自家 HBM 内存​ Base Die(IT之家注:基​础裸片)设计计划。英伟达未来的 HBM​ 内存供应链将采用内存原厂 DRAM​ Die + 英伟达 Base Di​e 的组合模式,有望改写​下一代 HBM 市场竞争版图。

据悉英伟达的自研 HBM Base Die 将采用 3nm​ 工艺制程,预计​于 2027 年下半年实行小规模试产。这一时间​点大致对应 “Rubin” 后的下一代 AI GPU “Feynman”。

四库全闻播报

由于传输速率、作用两方面的要求提升,从 HBM4 实​行 HBM 内存的 Base ​Die 转向逻辑半导体制程 众汇外汇平台 ,而英伟达在这一领域的设计经验明显多于 SK 海力士这样的纯存储半​导体制造商。

英伟达自研 Base Die IC官网​ 有助于加强其对 HBM 内存的议价能力​,利于向 Base Die 导入一系列高级作用,且能为采用 NVLink Fusion IP 的第三方 ASIC 展现更多模块化组合。

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作者: ueikd

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